中大研發「萬能墨水」 簡化高性能晶片生產過程及降生產成本

中大成功研發出一種「萬能墨水」，配合單步激光直接寫入技術，製作高性能晶片，大大減低生產成本及簡化高性能晶片的生產過程，中大亦已為此項技術申請專利。

中大物理系助理教授楊森率領的研究團隊指出，近年廣泛應用的光刻技術，是目前生產高性能晶片的最先進方法。這項技術十分複雜，涉及多個繁瑣製備過程，包括旋塗光膠、定位、光刻、顯影、蒸鍍、電鍍、剝離等，並需要使用光刻儀、蒸鍍儀等一系列高昂的儀器，大大增加生產成本及難度。另一方面，基於納米金屬顆粒沉積的激光直接寫入技術，則受制於電學、力學及解析度，精確度有限。

研究團隊經過一番篩選及嘗試，發現中國傳統書法和水墨畫，以及鋼筆中所用的碳素墨水，當中的碳納米顆粒具有很好的光還原性和微小的尺寸，是「萬能墨水」理想的半導體納米顆粒。由碳素墨水製成的「萬能墨水」成本低廉，並且可回收再用，減低對環境的污染。

楊森表示，這項新技術有兩大優勢，不但可以用多種材料製作複雜的圖案，增加晶片的應用範圍，更可配合光學測量儀器，以監控金屬結構在沉積過程的精確度和質量，促進未來的晶片工業發展。楊又冀「萬能墨水可以應用在更多領域的工業上，其團隊將繼續探討及發展此項技術。」