《紐時》：光刻機成中美晶片技術衝突要害所在

美國政府對中國實施晶片製造設備出口管制措施，其中光刻機設備被指成為美中技術衝突的要害所在。有專家認為，管制雖然不會即時摧毀中國的晶片製造商，但將「極大地限制」中國製造最先進半導體的能力。

《紐約時報》報道，隨着美國試圖減緩中國提高軍事技術的能力，將錯綜複雜的電路印到晶片上的光刻機設備，已成為一個關鍵的箝制點。報道稱，美國政府已採取行動，若非獲得美國政府特許，則全球各地的公司將被禁止向中國出口更多種類的晶片製造機器。此舉可能對中國的晶片製造業造成重大影響，並顯示了美國對其監管權力的非同尋常使用方式。即美方認為，只要在美國境外製造的設備上有一個美國製造的零件的話，他們就能對其進行監管。這一決定使美國政府對荷蘭和日本的公司取得新的控制權，因為一些最先進的晶片製造設備正是來自這兩國家。更具體而言，美國的規定將導致一些使用深紫外光技術的光刻機無法運往中國，主要由荷蘭ASML公司製造。

ASML行政總裁韋尼克表示，公司將無法再把某些工具運往「少數」中國晶片工廠，並補充說，「2023年賣出去的設備仍將發貨，只是2024年我們不能再賣了」。

荷蘭ASML為全球知名的光刻機巨頭。路透社

在向中國售出的設備中，美國及其盟友曾認為，光刻機的風險較小，因製造的晶片與最尖端的產品晶片有相當大的差距。但這想法在今年夏天受到考驗，今年8月中國華為公司出人意料發布了一款新智能手機，手機使用了中國製造的7納米晶片，在技術上只比台灣製造的最先進晶片落後兩代。分析人士得出的結論是，中國的中芯國際使用荷蘭的光刻機製造出7納米晶片。

華盛頓「戰略暨國際研究中心」技術專家艾倫說，但這一新事態令美國政府知道，迫切需要更新出口管制措施。艾倫認為，出口管制措施不一定會馬上摧毀中國最先進的晶片製造商，因為它們已經儲備了大量的先進設備。但他說，新措施將「極大地限制」中國廠商製造最先進半導體的能力。