美阻中国获取晶片战核心光刻机
2021-07-19 00:00
中国一直希望自主研发及生产先进晶片,但是无法取得制造先进晶片必须的「极紫外光微影系统」(EUV)光刻机。这种光刻机由荷兰阿斯麦公司(ASML)全球独家生产,包括台积电、三星和中国的半导体业领头羊,都争相向ASML订购光刻机。《纽约时报》日前引述美国专家指出,中国若无法取得阿斯麦EUV光刻机,要创建自给自足的半导体产业有如天方夜谭。
前特朗普政府二○一九年成功游说荷兰政府禁售光刻机给中国,无迹象显示现任拜登政府会改变此策略。美国国家人工智能安全委员会在三月发送给众议院和拜登的最终报告中指出,如果晶片生产主导权被中国夺走,中国可能会「窃取」美国和盟国的军事、工业机密。二○一八年荷兰政府批准阿斯麦向中国出口EUV光刻机后,特朗普政府采取行动阻止此事。
生产商使用晶片光刻技术,把晶片电路图形投射到晶圆上,一个晶片上可放入愈小的晶体管等组件,其性能就愈强,可存数据就愈多。阿斯麦光刻机耗时数十年开发,一九九七年采用波长极小的极紫外线,使用了美国、日本和德国的技术和零件,创造出比传统光刻更小的电路,于二○一七年开始大批量制造,每台EUV光刻机的售价为一亿五千万美元。这台复杂机器被公认为生产最先进晶片的必要工具,具备地缘政治的影响力。乔治城大学分析员亨特说,少了这个系统,制造商就无法生产顶级晶片。他估计,中国至少要十年才能制造类似机器。然而,阿斯麦行政总裁韦尼克四月表示,欧盟不应学美国那样禁止出口尖端科技到中国:「如果对中国实施出口管制,就会逼他们落实『科技主权』。」
關鍵字
最新回应