《纽时》：光刻机成中美晶片技术冲突要害所在

美国政府对中国实施晶片制造设备出口管制措施，其中光刻机设备被指成为美中技术冲突的要害所在。有专家认为，管制虽然不会即时摧毁中国的晶片制造商，但将「极大地限制」中国制造最先进半导体的能力。

《纽约时报》报道，随着美国试图减缓中国提高军事技术的能力，将错综复杂的电路印到晶片上的光刻机设备，已成为一个关键的箝制点。报道称，美国政府已采取行动，若非获得美国政府特许，则全球各地的公司将被禁止向中国出口更多种类的晶片制造机器。此举可能对中国的晶片制造业造成重大影响，并显示了美国对其监管权力的非同寻常使用方式。即美方认为，只要在美国境外制造的设备上有一个美国制造的零件的话，他们就能对其进行监管。这一决定使美国政府对荷兰和日本的公司取得新的控制权，因为一些最先进的晶片制造设备正是来自这两国家。更具体而言，美国的规定将导致一些使用深紫外光技术的光刻机无法运往中国，主要由荷兰ASML公司制造。

ASML行政总裁韦尼克表示，公司将无法再把某些工具运往「少数」中国晶片工厂，并补充说，「2023年卖出去的设备仍将发货，只是2024年我们不能再卖了」。

荷兰ASML为全球知名的光刻机巨头。路透社

在向中国售出的设备中，美国及其盟友曾认为，光刻机的风险较小，因制造的晶片与最尖端的产品晶片有相当大的差距。但这想法在今年夏天受到考验，今年8月中国华为公司出人意料发布了一款新智能手机，手机使用了中国制造的7纳米晶片，在技术上只比台湾制造的最先进晶片落后两代。分析人士得出的结论是，中国的中芯国际使用荷兰的光刻机制造出7纳米晶片。

华盛顿「战略暨国际研究中心」技术专家艾伦说，但这一新事态令美国政府知道，迫切需要更新出口管制措施。艾伦认为，出口管制措施不一定会马上摧毁中国最先进的晶片制造商，因为它们已经储备了大量的先进设备。但他说，新措施将「极大地限制」中国厂商制造最先进半导体的能力。