【修例风波】工程师及2无业汉涉袭警 续准保释12月再讯

反修例风波引发多区示威游行及集会，沙田、机场更数度成为战场，爆发激烈冲突，多人被捕。其中一名无业青年涉于本年8月在沙田警署外抓伤警员左下巴，被控一项袭警罪；工程师及无业汉分别涉嫌于同月在机场禁区用镭射笔射向警察，及出拳袭击警员以协助示威者逃走，各被控一项袭警罪。三人案件今于沙田裁判法院再讯，控方申请押后案件至12月6日获准，以待警方进一步调查，三人继续保释候讯。

控方表示区嘉伟涉与另外16人同犯，故须押后调查及索取法律意见。

现年25岁的区嘉伟，被控于本年8月12日，在香港新界沙田禾輋邨顺和楼外袭击执行职责的警务人员，即杨竣然。

另一方面，控方称区得福、彭及键两案需时检验涉案镭射笔及索取法律意见，故同押后案件至12月6日。其中，彭以严重限制人身自由为由，要求撤销宵禁令及离境限制，最终只获撤宵禁令。

27岁的区得福被控于本年8月13日，在香港机场一号客运大楼第八层（非禁区）二号区外路上袭击警员李智健。

28岁工程师彭及键被控于同日在香港机场一号客运大楼第八层（非禁区）四号区袭击警员邓东华。

法庭记者：叶君怡